水平におかれた二次元平面壁の下面を加熱すると，隙間（スロット）で浮力による熱対流が生じます．壁面を一様に加熱するとレイリ－・ベーナル（RB)対流による規則的なロールが生じますが，加熱強さ（レイリー数）を増すとロールは崩壊し，乱流へと遷移します．これに対し，本研究では，規則的な温度分布による流れの制御に着目しています．上面を一様等温に保ち，下面を二次元周期加熱（上面温度を挟んで加熱・冷却）すると，加熱冷却に対応した定在対流ロールが生じます（図左）．これに右向きの流れ（平面ポアズイユ流れ）を与えると，水平流れはロールに沿うように大きく蛇行します．このとき，ロールは流れを後押しする方向に回転し，壁面では流れ（抵抗）と反対方向のせん断力が生じます．これによって，流路内の抵抗は約8%減少します．このロールは，RB対流の臨界レイリー数を10倍以上超えても実現されます．